LPCVD (zema spiediena ķīmiskā tvaiku pārklāšana) ir galvenā pusvadītāju procesa tehnoloģija. Lūk, kā tas darbojas: zema-spiediena apstākļos gāzveida savienojumi tiek uzkarsēti, lai izraisītu reakcijas, atstājot uz pamatnes virsmām stabilas cietas plānas kārtiņas. To galvenokārt izmanto galvenajām plēvēm, piemēram, silīcija nitrīdam, silīcija oksīdam un polikristāliskajam silīcijam,{3}}tas ir lieliski piemērots integrālo shēmu, optoelektronisko ierīču un līdzīgu jomu galvenajām procesa vajadzībām.
Nice{0}}Tech ir neatkarīgi izstrādājusi divus LPCVD modeļus: horizontālo un vertikālo. Abas izceļas ar augstas-precizitātes temperatūras kontroli un augstākās- plēves viendabīgumu, aptverot visu, sākot no pētniecības un izstrādes verifikācijas līdz liela mēroga-ražošanai. Horizontālais modelis ir lieliski piemērots 8-collu un mazākām plāksnēm,-tas vienmērīgi pārslēdzas starp oksidēšanu, difūziju, atkausēšanu un citiem procesiem, padarot to ideāli piemērotu sērijveida ražošanai un procesa pārbaudēm. Vertikālā ar savu modulāro dizainu un automatizēto integrāciju var apstrādāt 6-12 collu vafeles. Tas ir labāk piemērots viedām ražošanas līnijām, kurām nepieciešama efektīva nogulsnēšana. Kopā tie piedāvā stabilus, uzticamus zemspiediena uzklāšanas risinājumus pusvadītāju ražošanai — bez sarežģītas iestatīšanas, tikai konsekventu veiktspēju, kad tas ir svarīgi.
I. Galvenie atlases punkti
1. Vafeļu izmērs: horizontālais LPCVD darbojas ar 8-collu un mazākām vafelēm. Vertikālais LPCVD aptver plašāku diapazonu (6-12 collas), tāpēc tas ir piemērots- liela izmēra vafeļu masveida ražošanai.
2. Scenārija vajadzības: ja veicat pētniecību un izstrādi vai vairāku{1}}procesu verifikāciju, Horizontal LPCVD ir labākā izvēle,{2}}tā ērtā procesa pārslēgšana (oksidēšana, difūzija, atkausēšana utt.) lieliski atbilst šīm vajadzībām. Liela mēroga-masveida ražošanai vai integrācijai ar viedajām ražošanas līnijām Vertical LPCVD ir labāks, pateicoties tā modulārajai konstrukcijai un automatizācijai.
3. Plēves un veiktspēja: abos modeļos galvenokārt tiek uzklāts silīcija nitrīds, silīcija oksīds un polikristālisks silīcijs. Bet, ja jums ir nepieciešamas īpašas plēves, ir pieejami pielāgoti risinājumi, pamatojoties uz jūsu īpašajām procesa prasībām. Runājot par veiktspēju, horizontālā LPCVD viendabīgums ir mazāks par vai vienāds ar ±2%, savukārt vertikālie trāpījumi ir mazāki vai vienādi ar ±3%. Abi darbojas no 500 līdz 800 grādiem, kas atbilst zema spiediena ķīmiskās tvaiku pārklāšanas procesam lielākajai daļai galveno pusvadītāju plāno kārtiņu.
II. Galvenie lietojumprogrammu scenāriji
1. Integrētās shēmas (IC): tas ir galvenais solis CMOS, IGBT un citu mikroshēmu izveidē,{1}}gatavojot vārtu oksīdus un starpslāņu dielektriķus, kas tieši ietekmē mikroshēmas veiktspēju.
2. Optoelektroniskās ierīces: VCSEL ierīcēm tas uzliek optiskās plēves, kas uzlabo gan optiskās, gan elektriskās īpašības, lai ierīces darbotos labāk.
3. Plaša-joslas spraugas pusvadītāji: nemanāmi darbojas ar silīcija karbīda (SiC) plānas-plēves pārklājumu, apmierinot augstas-temperatūras jaudas ierīču vajadzības.
4. Zinātniskā izpēte. Lieliski piemērots maziem -pakešu eksperimentiem- neatkarīgi no tā, vai testējat jaunus materiālus, piemēram, litija niobātu, vai pētāt jaunus procesus, piemēram, kvantu mikroshēmu plēves uzklāšanu.
III. Piemērotas klientu grupas
1. Pētniecības iestādes un universitātes: Horizontālā LPCVD ir pareizais ceļš. Tā spēja pārslēgties starp dažādiem procesiem padara to īpaši parocīgu maziem-pakešu pētniecības projektiem ar dažādām vajadzībām.
2. Vidēja un maza{1}}pusvadītāju uzņēmumi: horizontālie LPCVD piedāvā lielisku vērtību. Tas ir pietiekami elastīgs, lai veiktu nelielu -partiju pētniecību un izstrādi, un tā nobriedušā, tirgū-pārbaudītā struktūra atbalsta arī 8-collu un mazāku vafeļu masveida ražošanu, kas ir lieliski piemērota, ja nepieciešams apvienot vairākus procesus.
3. Lielie{1}}ražošanas uzņēmumi: vertikāla LPCVD ir obligāta. Tas aptver 6-12 collu vafeles un vienmērīgi integrējas ar viedajām ražošanas līnijām, palielinot lielapjoma ražošanas efektivitāti.
4. Optoelektronisko un plato{1}}joslas materiālu ražotāji: izvēlieties, pamatojoties uz ražošanas apjomu. Vertikālais LPCVD ir ideāli piemērots masveida ražošanai, savukārt horizontālais LPCVD ir piemērots pētniecības un izstrādes fāzēm, kurās, iespējams, būs jāpārbauda dažādi parametri.
5. Īsa piezīme par apkopi: abām ierīcēm parasti ir nepieciešama apkope ik pēc 6–12 mēnešiem,{3}}piemēram, dobuma tīrīšana un temperatūras kontroles sistēmas kalibrēšana. Precīzs laiks ir atkarīgs no lietošanas biežuma un procesa sarežģītības, taču mūsu pēc-pārdošanas komanda regulāri sūta atgādinājumus, lai viss būtu kārtībā.
