Minimālais objekta izmērs
Minimālais kritiskais izmērs (CD):
Minimālais objekta izmērs, kas pazīstams arī kā puse piķa izmērs, ir viens no svarīgākajiem parametriem litogrāfijas iekārtu veiktspējas mērīšanai.
Starp tiem ir konstante, kas atšķiras dažādās litogrāfijas shēmās, kur λ ir ieejas gaismas avota viļņa garums un NA ir litogrāfijas iekārtas optiskās sistēmas skaitliskā apertūra. Attiecībā uz konstantēm pašlaik ASML DUV litogrāfijas iekārta Nīderlandē var sasniegt maksimumu aptuveni 0,25, savukārt EUV joprojām ir aptuveni 0,35. Jo mazāks ir ieejas gaismas avota viļņa garums, jo mazāks ir faktiskais fotolitogrāfijas process, ko var veikt. Skaitliskajai apertūrai NA šīs vērtības augšējā robeža parasti ir 1,0 DUV shēmām, kas nesamitrina, un aptuveni 1,35 mitrināšanas DUV shēmām. Salīdzinot ar neiegremdējamo litogrāfiju, iegremdējamās litogrāfijas iekārtas izmanto papildu šķidrumu refrakcijai litogrāfijas laikā, parasti tīru ūdeni ar refrakcijas koeficientu aptuveni 1,33. Tas ir arī iemesls, kāpēc iegremdēšanas litogrāfijas mašīnām ir lielāks NA.
Gravējuma precizitāte
Pārklājuma precizitāte: izlīdzināšanas precizitāte starp maskas un vafeļu rakstiem.
Pamatnozīme attiecas uz modeļu izlīdzināšanas precizitāti starp diviem fotolitogrāfijas procesiem. Ja izlīdzināšanas novirze ir pārāk liela, tas tieši ietekmēs produkta ražu.
Ekspozīcijas tolerance
Ekspozīcijas platums: Ekspozīcijas platums, kas pazīstams arī kā ekspozīcijas robeža, ir viens no svarīgākajiem procesa loga parametriem. Optiskās ekspozīcijas sistēmas var veidot ekspozīcijas enerģijas diapazonu, kas atbilst konstrukcijas izkārtojuma prasībām. To parasti nosaka ekspozīcijas enerģijas izvēles diapazons ± 10% robežās no CD vērtības izmaiņām, ko nosaka ekspozīcijas rezultāts. Ja, fotorezistam novirzoties no optimālās ekspozīcijas devas, eksponētā raksta līnijas platums mainās salīdzinoši maz, tas norāda, ka fotorezistam ir liela ekspozīcijas tolerance. Jo lielāka ir iedarbības tolerance, jo lielāka ir attīstības tolerance.
Ekspozīcijas tolerance un projekcijas attēla kontrasts ir cieši saistīti. Ja projicētā attēla elementa izmēram ir vājš attēla kontrasts, tas būs pārāk jutīgs pret devas izmaiņām
